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      全光譜顯微鏡

      簡要描述:UVM-1™全光譜顯微鏡的設計是將紫外-可見-近紅外成像技術和顯微技術相結合,能夠實現紫外-可見-近紅外的成像。具有前沿技術的結合CRAIC創新設計的光學技術,用戶僅用一臺顯微鏡就能在整個寬光譜范圍內完成顯微成像,無論是高分辨能力,還是光譜成像能力。

      • 產品型號:UVM-1™
      • 廠商性質:代理商
      • 更新時間:2023-08-16
      • 訪  問  量:859

      詳細介紹

      UVM-1™全光譜顯微鏡的設計是將紫外-可見-近紅外成像技術和顯微技術相結合,能夠*的實現紫外-可見-近紅外的成像。具有前沿技術的UVM-1™全光譜顯微鏡結合CRAIC創新設計的光學技術,用戶僅用一臺顯微鏡就能在整個寬光譜范圍內完成顯微成像,無論是高分辨能力,還是光譜成像能力。

      UVM-1™全光譜顯微鏡具有*的多功能系統設計,能夠允許用戶只在一臺顯微鏡上獲得紫外-可見-近紅外的高分辨率成像和分析結果。紫外顯微鏡對半導體內微量異物有很高的靈敏性,相比標準的顯微鏡,具有更強大的的能力測量微量變化。近紅外顯微鏡能夠無損的、有選擇性的對硅晶片設備內部的電子電路進行精確的成像,這些應用知識是其眾多應用領域的一小部分。 UVM-1™也可與拉曼一起提供給您更多的功能。

      UVM-1™ 易于使用<strong>全光譜顯微鏡</strong>


      全光譜顯微鏡技術參數參數

      顯微鏡光譜范圍200-2500nm
      熒光光譜法范圍300-1000nm
      探測器CCD (UV-vis) /InGaAs (NIR)
      可見光成像500萬(200-2500nm)
      紫外成像200-400nm
      近紅外成像900-1700nm
      高分辨率UV成像可選
      高分辨率NIR成像可選
      UV-Visible-NIR物鏡可選
      TE冷卻固體傳感器可選
      顯微鏡自動化可選



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